Российские литографы, фабрика, литография

Стало известно, что в феврале 2025 года Завод «Микрон» взял кредит в ВЭБ.РФ в размере 15 млрд. рублей на расширение мощностей существующих предприятий и запуск новых производственных площадок. Эта безусловно положительная информация подаётся в СМИ довольно странным образом, видимо, для хайпа на негативе: Производитель микроэлектроники «Микрон», принадлежащий группе «Элемент», заложил более сотни единиц производственного и прочего оборудования для привлечения финансирования. Заложены установки ASML, Hitachi, Zeta и другие...

Мы все знаем, что при производстве чипов ключевым элементом производственной линии является фотолитограф, который, собственно, и задаёт рисунок слоёв микросхемы на пластине из кремния. В погоне за увеличением быстродействия электронной схемы чипа, производители стараются сделать соединения между транзисторами в чипе как можно короче. Уменьшение длины соединений на 30% может снизить задержку на 40–50%, что критично для высокочастотных процессоров. Формула задержки сигнала: t ∝ R_уд ⋅ C_уд ⋅ L² где:...

Первые ОКР, начатые в самом начале 20-х годов, потихоньку начинают приносить свои плоды. Когда-то я с радостью писал об их начале, но скептики мне говорили — «это распил, ничего не будет, за 4 года или ишак или падишах...», ну и так далее. Но вот закончился 2024-й год, и начала появляться первая информация о различных разрабатываемых изделиях, находящихся в высокой степени готовности и даже в уже действующем состоянии. Так, совсем недавно я уже писал о готовности фотолитографа на 350 нм вместе с...

Последняя информация о российском литографе на 350 нм с рабочей длиной волны 365 нм озвучивалась ещё год назад, когда заместитель министра промышленности и торговли Василий Шпак сообщил, что первый российский литограф уже создан и проходит испытания. С тех пор в СМИ не появлялось никакой конкретики, хотя испытания должны были закончится ещё в ноябре прошлого 2024-го года. И вот, 20 марта 2025-го года появился репортаж блогера Максима Горшенина непосредственно с ЗНТЦ, разработавшего этот литограф вместе с Белорусским Планаром...

В марте 2025-го года на симпозиуме «Нанофизика и наноэлектроника», прошедшем в Нижнем Новгороде, была озвучена новая информация, касающаяся российского рентгеновского EUV-литографа. Этой информацией я поделился в своей статье «Российский рентгеновский EUV-литограф — дело сдвинулось с мёртвой точки!». Среди комментариев, в целом, довольно положительных, прозвучало также и два, прямо таки, скажем, противоположных пожелания. Первое прозвучало от имени читателей, знакомых с темой производства чипов довольно поверхностно...

На днях у меня выходила статья «Российский рентгеновский EUV-литограф — план создания от 2025 года из ИФМ РАН», в которой я анонсировал выступление доктора физико-математических наук Николая Ивановича Чхало на симпозиуме «Нанофизика и наноэлектроника», которое должно было пройти 14 марта 2025 года по теме проектирования российского рентгеновского литографа. Симпозиум прошёл, выступление состоялось, и в сегодняшней своей статье я расскажу содержимое доклада, в котором была кое-какая новая информация...